放开DUV光刻机出口!ASML回应中国市场问题

家衡 1周前 (10-16)

这次提到的是DUV光刻机出口,并非更先进的EUV光刻机。

10月14日,荷兰ASML首席财务官Roger Dassen就向中国出口光刻机的问题上发表了口头声明。他表示,在一定情况下,向中国出口DUV(深紫外)光刻机无需美国许可。

有人表示,有了光刻机的支持,中国半导体发展将有很大进步。

但也有人评论称,这次中国企业随便购买的只是DUV光刻机,并不是技术含量最高的EUV(极紫光)光刻机。

ASML:DUV出口不受美国限制

当地时间10月14日,半导体巨头、全球光刻机领头企业ASML发布了其2020年第三季度财报,请首席财务官罗杰·达森(Roger Dassen)也接受了视频采访。

当被问及美国的半导体出口禁令对ASML的业务有何种影响时,达森回应称,他们注意到了美方的禁令,也意识到了禁令对中国客户的影响。随后达森表示:“如果要解释一下美国的规定对ASML有什么影响的话,对于的中国客户,我们还是可以直接从荷兰向他们出口DUV光刻机,无需任何出口许可。”

但他随后也补充称,如果相关系统或零件是从美国出口的,那这些设备仍然需要得到美方的许可。

达森表示,ASML将尽最大努力,尽可能为所有客户继续提供服务和支持。

根据公开的财报电话会议录音,ASML首席执行官彼得·韦尼克(Peter Wennink)也在会议上确认了这一点。

韦尼克称,根据当前美国的规定,直接从荷兰向中国出口的DUV光刻机不受影响。

重视中国市场,第二次表态

事实上这是最近AMSL第二次针对中国市场的表态。

在今年9月17日,美国制裁华为禁令生态后的第三天,ASML全球副总裁沈波先生就表态,ASML作为全球半导体行业的合作伙伴,未来ASML将会加快在中国市场的布局。

目前中国是最大的芯片需求国,现在又需要生产大量的先进制程的芯片,这自然就需要用到大量的EUV光刻机。

面对这样一个潜力庞大的市场,AMSL自然不愿放弃。

根据ASML发布的财报,2020年第三季度ASML光刻机净销售额达31亿欧元,其中中国大陆市场的营收占到21%。

今年5月,ASML与无锡高新区签署了战略合作协议,在无锡高新区内扩建升级ASML光刻设备技术服务(无锡)基地。

而此前,ASML已在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司,其中深圳更是其在亚洲最大的软件研发中心。

不是EUV,顶尖光刻机仍是问题

值得一提的是,达森和韦尼克都强调的是DUV光刻机出口,并未提到更先进的EUV(极紫外)光刻机。

而彭博社也在14日的报道中强调,DUV的规则不适用于EUV光刻机。ASML必须获得许可证才有可能向中国企业出口EUV光刻机。但荷兰政府已经暂缓了EUV光刻机出口许可,一直到现在都没有批准。

EUV光刻机和DUV光刻机有什么不同?

根据曝光源的不同,光刻机分为EUV型(极深紫外线)、DUV型(深紫外线)。从制程范围来看,DUV可以制造28nm-7nm之间的各种芯片,但7nm以下的先进制程必须用到EUV光刻机。

如果没有EUV光刻机,那个国产芯片制程只能止步7nm。

而ASML是目前全球唯一能够量产EUV光刻机的厂商。

据了解,EUV光刻机不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精细图形,没有超纯水和晶圆接触,在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。

就是这么一台设备,一台需要10万个零配件,价值高达7亿人民币,而且一年产量只有几十台,且有限供应给三星、台积电等大客户。此前中芯国际2018年5月才下单给ASML。

国内厂商想购买一台,太难。

中科院入局,国内厂商突破

事实上,ASML最担心的还是国内厂商实现技术突破,从而导致ASML损失国内市场。

据悉,虽然目前国产光刻机还无法与ASML的先进光刻机相比,但国内厂商一直都在突破,预计在2021年就能够上市28nm的国产光刻机。

另外,中科院也已经正式宣布,要集中力量解决主要问题,像光刻机等。

9月16日,中科院院长白春礼在中国科学院 “率先行动”计划第一阶段实施进展发布会上表示,“率先行动”计划第二阶段要把美国 “卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局,集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关,这其中就包括了光刻机。

除中科院外,华为等厂商也加速研发突破光刻机等技术,仅华为就计划在2年内投入80亿美元,要在光刻机技术方面实现突破。一旦国产光刻机实现突破,ASML在DUV光刻机上价格优势也不再有。

尾声

从ASML角度来看,出售DUV光刻机一方面为了打开国内的市场,另一方面也为了延缓国产光刻机的研发进度。

但在美国制裁的背景下,整个行业指望设备完全国产化也是不现实的事情,所以购买ASML的DUV光刻机解决燃眉之急应该是绝大多数企业的首选。

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