荷兰出手了!ASML DUV光刻机设备出口受限,今夏前实施

韩璐 7个月前 (03-10)

ASML紧急回应:关注成熟制程的客户不受影响。

当地时间3月8日,荷兰出手了,宣布计划对半导体技术出口实施新的管制。

这一消息源于荷兰外贸与发展合作大臣Liesje Schreinemacher致荷兰议员的一封信,其中写道:

“鉴于技术发展和地缘政治背景,政府得出结论,为了国家安全,有必要扩大对特定半导体制造设备的现有出口限制。”

信中还提到,荷兰方面将建立国家出口管制清单,管制措施也将在今年夏天之前开始实施。

可以注意到,致信中并没有直接点名ASML、光刻机和中国,但联想到1月份美日荷三方于白宫会面商讨出口限制一事,以及达成的那份没有公布细节的协议,本次荷兰出手的缘故显而易见。

而就在之后接受媒体采访时,Schreinemacher也表示,新禁令下还是有许多更低端的设备可以销往中国,无需取得许可,包括制造汽车、冰箱、电话和风力发电机所需芯片的设备。

荷兰宣告出手限制出口的第二天,光刻机龙头ASML也做出了自己的回应。

“最先进”DUV设备受限

事实上,自2019年以来,ASML的EUV设备就被禁止出口中国大陆。这一次的焦点,在于DUV设备,其主要用于生产28nm及更成熟制程的芯片,通过多次曝光,也是可以实现7nm制程的。

在声明中,ASML先是表明荷兰政府的措施不会对公司2023年的财务产生重大影响。随后称,最新出口管制并不适用于所有的浸没式光刻工具,而是仅适用于“最先进”工具。

至于“最先进”的具体定义,荷兰政府方面尚没有给出确切的消息。不过ASML给出了自己的解释——关键的浸没式系统,即TWINSCAN NXT:2000i和后续推出的浸没式系统。

ASML官网显示,其浸没式DUV设备目前主要有3款产品,分别是TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:1980Di。其中依照ASML对“最先进”的理解,NXT:2050i和NXT:2000i将受到此次出口限制影响,NXT:1980Di则不受影响。

据悉,NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm,每小时可以生产275片晶圆,当前主要被用于45nm以下成熟制程的生产。

依据ASML在声明中所言,主要关注成熟制程的客户,使用不太先进的浸没式光刻工具也能够得到很好的服务。

技术限制步步紧逼

当前的光刻机市场,ASML与尼康、佳能一起拿下超过90%的市场份额。其中,ASML主要着眼于高端市场,也是全球唯一的EUV光刻机供应商,尼康和佳能则聚焦中低端市场。

自然而然的,这个被称作“半导体工业皇冠上明珠”的领域,也被美国视作技术封锁,尤其是芯片相关技术封锁的重要一环。

事实上,自2018年来,美国就已经开始向荷兰政府施压,要求其撤销ASML向中国出口EUV光刻机的许可。它也做到了,自2019年开始ASML EUV设备的销售就受到了限制。

而现在,轮到了DUV设备。

今年1月份,外媒报道称荷兰首相Mark Rutte会见美国总统拜登时,双方就ASML向中国销售DUV设备可能实施的出口限制问题进行了讨论,并于27日达成了一项协议。

直到现在,三方都没有就这份协议进行公开或讨论,但荷兰此次宣布的出口限制,也让外界对这份协议有了一番猜测。

值得注意的是,彼时在白宫与美国政府商讨事宜的还有日本,后者在半导体材料和设备全球市场中同样保持领先。有数据统计称,日本企业在全球半导体设备市场的份额为35%,在全球半导体原材料市场的份额为52%。

就在荷兰宣布计划对半导体技术出口实施新管制之后不久,也有消息称日本最快将于本周发布最新芯片设备出口政策。对比荷兰此次的做法,预计日本也将在很大程度上遵循美国的脚步。针对中国的半导体技术限制正一步步增强。

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